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グラファイトボール配置治具
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グラファイトボール配置治具

SIKAIDA グラファイト ボール配置治具システムは、半導体パッケージング、エレクトロニクス製造、精密機器産業向けの高精度ソリューションです。高純度グラファイトと精密機械加工プロセスを利用して、高度なパッケージング要件を満たします。中国の大手半導体ツーリングメーカーとして、当社は世界中の顧客に高品質のカスタマイズされたソリューションを提供し、生産効率と製品歩留まりを向上させます。

SIKAIDA グラファイト ボール配置治具は、高純度グラファイトと精密機械加工および表面処理技術を採用しており、半導体グレードの基準を満たしています。表面は滑らかできれいで、安定した高温性能を備えています。最適化された構造により、操作とメンテナンスが容易になり、ボールの配置効率と歩留まりが効果的に向上します。


高純度グラファイトは熱伝導性と耐食性に優れ、高温はんだ付け時の寸法安定性を確保し、有害なイオン汚染を防ぎます。特殊な表面処理により、はんだボールとの優れた濡れ性が保証され、酸化汚染が回避されます。

技術仕様

アイテム

仕様

テクニカルインデックス

基材

高純度グラファイト

純度 ≥99.5%、灰分 ≤0.5%

密度

1.7 ~ 1.9 g/cm3

±0.05g/cm3

表面平坦度

精密ラップ仕上げ

平面度 ≤0.002 mm/m

表面粗さ

ウルトラスムーズ

Ra≦0.4μm

動作温度

-40℃~300℃

広い温度範囲

ボール位置精度

直径±0.025mm。ピッチ±0.05mm

高精度位置決め

金属不純物

Fe ≤ 10 ppm、Cu ≤ 5 ppm

半導体グレードの純度

CTE (25 ~ 200°C)

4~6 ×10⁻⁶/K

シリコンウェーハに適合

圧縮強度

≥35 MPa @20°C

高い機械的強度

抵抗率

8~15μΩ・m @25℃

安定した電気特性

機械加工

5軸CNC

位置決め精度±0.01mm

表面処理

真空熱処理

歪取り焼鈍

標準サイズ

100×100×10mm~300×300×50mm

複数の標準モデル

カスタマイズ

規格外

図面ごとにカスタマイズ可能

主な特長

グラファイト ボール配置治具には、いくつかの重要な特徴があります。 1) 高純度 (グラファイト ≥99.5%、イオン汚染なし)。 2)高い平坦度(平坦度≤0.002mm/m、Ra≤0.4μm)。 3)ミクロンレベルのボール配置精度(ボール直径±0.025mm、ボール間隔±0.05mm)。 4)高温耐性(300℃でも安定した性能)。 5) 優れた熱管理 (均一な熱伝導率、熱応力の低減)。

アプリケーションシナリオ

グラファイト ボール配置治具は、半導体パッケージング (BGA や CSP などの高密度パッケージング)、マイクロエレクトロニクス アセンブリ (0402 や 0201 などの小型コンポーネント)、光電子デバイス (LED、レーザー)、MEMS デバイス、およびパワー半導体 (IGBT、MOSFET) で広く使用されています。

主な利点

1. 材料純度の利点: 不純物含有量が低く、ガス発生速度が低く、化学的安定性、一貫したバッチパフォーマンス、および半導体業界規格への準拠。

2. 精度の利点: ミクロンレベルの平坦度と位置決め精度、滑らかで欠陥のない表面、量産時の優れた再現性、高密度実装への適応性。

3. 熱性能の利点: 広い動作温度範囲 (-40°C ~ 300°C)、シリコンウェーハと互換性のある熱膨張係数、良好な熱伝導率、安定した熱サイクル性能。

4. プロセス互換性の利点: グラファイト ボール配置治具は、さまざまなはんだと互換性があり、幅広いプロセス ウィンドウを備え、洗浄が容易で、寿命が長く、大きな経済的メリットをもたらします。

技術力

徹底した原料管理と入荷時の複数回の検査、高い技術力を誇る同社。表面品質を確保するための高精度加工装置のフルセットを備えています。さまざまなニーズを満たす多様な表面処理プロセス。安定した精度を確保するための精密な検査システム。実際の生産に適応するための厳しい環境テストに合格した製品。

よくある質問:

Q1: ボール配置治具にグラファイト素材を選択する理由は何ですか?

A1: 黒鉛材料は非常に純度が高く、熱伝導性、耐高温性に優れ、半導体プロセスにおいて化学的に安定しています。他の材料と比較して、グラファイトはチップに有害な不純物イオンを放出せず、高温でも寸法安定性を維持するため、半導体ボール配置治具に最適な材料です。


Q2: 治具の比平面度、表面粗さはどのくらいですか?

A2: 当社のグラファイトボール設置治具は、表面の平面度が0.002mm/m以内に管理されており、表面粗さはRa≦0.4μmです。この極めて高い表面の平坦性と平滑性により、チップと基板との均一な接触が確保され、表面の凹凸によるボールの配置不良が回避されます。


Q3: ボールの配置精度はどの程度まで達成できますか?

A3: 弊社治具はボール配置位置精度±0.025mm、ボールピッチ精度±0.05mmを実現しています。このレベルの精度は、現在の主流の半導体パッケージングプロセスの要件を完全に満たしており、高密度、マイクロピッチのボール配置アプリケーションに対応できます。


Q4: 器具の最高使用温度は何度ですか?

A4: 当社のグラファイトボール配置治具は、-40°C ~ 300°C の温度範囲内で正常に動作します。この温度範囲は、リフローはんだ付けや高温保管を含む、半導体パッケージングプロセスのすべての重要な段階をカバーします。


Q5: カスタマイズされたツール製品を提供できますか?

A5: はい、特定の顧客のニーズに応じてカスタマイズされたサービスを提供できます。お客様からは詳細な図面やサンプルをご提供いただき、規格外の各種工具製品の加工も承ります。最小加工寸法は0.5mm、公差は±0.01mm以内に管理可能です。


Q6: ツールの耐用年数と再利用可能性はどのくらいですか?

A6: 通常の使用と適切なメンテナンスの下では、当社のグラファイト ボール取り付けツールは 100 回以上再利用できます。実際の耐用年数は、特定の使用条件、プロセスパラメータ、メンテナンスによって異なります。工具が良好な状態にあることを確認するために、定期的な表面検査と性能テストをお勧めします。


Q7: 工具の清潔さと汚染のない性質をどのようにして確保しますか?

A7: 当社の金型は、加工後に超音波洗浄、純水リンス、高温ベーキングなどの厳密な洗浄と表面処理を受けています。ツールは、輸送および保管中の清潔さを確保するために、帯電防止および防塵パッケージで梱包されています。製品到着後は開梱してクリーンルーム環境でご使用いただくようお願いいたします。


Q8: 工具の抵抗率と熱伝導率はどれくらいですか?

A8: 当社のグラファイト工具の抵抗率は 8 ~ 15 μΩ·m (25°C 時)、熱伝導率は約 120 ~ 200 W/m·K です。これらのパラメータにより、電気絶縁と熱管理のバランスのとれたパフォーマンスが確保され、さまざまな半導体パッケージング用途に適したものになります。


ホットタグ: グラファイトボール配置器具、中国、メーカー、サプライヤー、工場
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